科學(xué)和生命科學(xué)等研究領(lǐng)域

在一定程度上推動(dòng)了納米技術(shù)的產(chǎn)生和發(fā)展。  光學(xué)干涉顯微鏡測(cè)量是目前比較常用也是發(fā)展較為完善的一種測(cè)量手段。光學(xué)干涉顯微鏡測(cè)量技術(shù)，包括外差干涉測(cè)量技術(shù)、超短波長(zhǎng)干涉測(cè)量技術(shù)、基于F-P（Ferry-Perot）標(biāo)準(zhǔn)的測(cè)量技術(shù)等，隨著新技術(shù)、新方法的利用亦具有納米級(jí)測(cè)量精度。

同樣利用干涉的納米測(cè)量的掃描X射線干涉技術(shù)能給出納米級(jí)分辨率，國(guó)內(nèi)清華大學(xué)測(cè)試技術(shù)與儀器國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室在1997年5月利用自己研制的X射線干涉器件在國(guó)內(nèi)shou次清楚地觀察到X射線干涉條紋。軟X射線顯微鏡、掃描光聲顯微鏡等用以檢測(cè)微結(jié)構(gòu)表面形貌及內(nèi)部結(jié)構(gòu)的微缺陷。

掃描X射線干涉測(cè)量技術(shù)是微/納米測(cè)量中的一項(xiàng)新技術(shù)，它正是利用單晶硅的晶面間距作為亞納米精度的基本測(cè)量單位，加上X射線波長(zhǎng)比可見(jiàn)光波波長(zhǎng)小兩個(gè)數(shù)量級(jí)，有可能實(shí)現(xiàn)0.01nm的分辨率。美國(guó)NIST和德國(guó)PTB分別測(cè)得硅（220）晶體的晶面間距為192015.560±0.012fm和192015.902±0.019fm。

日本NRLM在恒溫下對(duì)220晶間距進(jìn)行穩(wěn)定性測(cè)試，發(fā)現(xiàn)其18天的變化不超過(guò)0.1fm。實(shí)驗(yàn)充分說(shuō)明單晶硅的晶面間距具有較好的穩(wěn)定性。

圖像識(shí)別與傳感器技術(shù)：  圖像識(shí)別測(cè)量過(guò)程包括：（1）圖像信息的獲取；（2）圖像信息的加工處理，特征提取；（3）判斷分類。

計(jì)算機(jī)及相關(guān)計(jì)算技術(shù)完成信息的加工處理及判斷分類，這些涉及到各種不同的識(shí)別模型及數(shù)理統(tǒng)計(jì)知識(shí)。